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99.999% 5N 탄소 Tetrafluoride CF4

5N 탄소 Tetrafluoride CF4 99.999% 반도체 전자 특수 가스 산업은 높은 기술 장벽을 가지고 있습니다. 반도체 전자 특수 가스의 생산 공정은 합성, 정화, 혼합 가스 준비, 충전과 같은 많은 공정 기술을 포함합니다......

출시 시간：2025-04-25

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99.999% 5N 탄소 Tetrafluoride CF4, 반도체 전자 특수 가스 산업은 높은 기술 장벽을 가지고 있습니다. 반도체 전자 특수 가스의 생산 공정에는 합성, 정화, 혼합 가스 준비, 충전, 분석 및 테스트, 가스 실린더 처리와 같은 많은 공정 기술이 포함됩니다. 각 단계에는 엄격한 기술 매개 변수 요구 사항 및 품질 관리 조치가 있습니다. 반도체 장치의 품질과 수율을 보장하기 위해 특수 가스 제품은 "초 순수" 및 "초 청정" 의 요구 사항을 동시에 충족해야합니다. "초순수" 는 가스 순도가 4.5N, 5N 또는 심지어 6N, 7N 에 도달하도록 요구합니다 (N은 Nine의 약어이며 여러 Ns와 여러 9 s가 있습니다. "매우 깨끗한" 입자 및 금속 불순물의 함량을 엄격하게 제어해야합니다. 특수 가스의 매개 변수로, 순도가 1 N 씩 증가하고 입자 및 금속 불순물의 농도가 1 배 감소 할 때마다 공정 복잡성 및 어려움이 증가합니다.

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