99.999% 5N 탄소 테트라 플루오 라이드 CF4

99 . 999% 5N Carbon Tetrafluoride CF4, 반도체 전자 특수 가스 산업은 높은 기술적 장벽을 가지고 있습니다 . 반도체 전자 특수 가스의 생산 공정은 합성, 정제, 혼합 가스 준비, 필링, 분석 및 테스트와 같은 많은 공정 기술을 포함합니다 ({5}) 기술 매개 변수 요구 사항 및 품질 관리 측정 . 반도체 장치의 품질과 수율을 보장하기 위해 특수 가스 제품은 동시에 "Ultra-Pure"및 "Ultra-Clean"의 요구 사항을 충족해야합니다. . "Ultra-Pure"는 4. 5n, 5n, 5n, 7n (7n)에 도달하기 위해 가스 순도가 필요합니다. 여러 NS 및 몇 가지 9S . "Ultra-Clean"은 특수 가스의 매개 변수로서 입자의 함량과 금속 불순물의 엄격한 제어가 필요하며, 모든 순도의 매개 변수 및 한 번의 순차에 의한 모든 순도의 감소가 공정 복잡성과 난이도를 증가시킬 것이다.

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