설명
기술적인 매개 변수
전자 등급의 탄소 테트라 플루오 라이드 CF 4 99.999%는 미세 전자 산업에서 가장 널리 사용되는 플라즈마 에칭 가스 . 이는 실리콘, 실리콘 나트리틀, 포스 포 루스 유리 및 전기 실리콘 유리 및 {2}의 실리콘과 같은 실리콘과 같은 박막 재료를 에칭하는 데 널리 사용됩니다. 장치 표면 세정, 태양 전지 생산, 레이저 기술, 저온 냉장, 가스 단열재, 누출 감지제, 우주 로켓 태도 제어, 세제, 윤활제 및 브레이크 유체는 인쇄 회로 생산 . 강한 화학적 안정성으로 인해 전자 탄소 탄소 테트라 플루오 라이드 CF4 99.999%가 또한 금속 SMM SMMILTENT 및 플라스틱에 사용될 수 있습니다. 산업 . 오늘날의 초대형 규모 통합 회로에 사용되는 전자 가스의 특성 및 개발 추세는 자체적으로 마이크로 전자 산업의 발전을 촉진하기 위해 . {. {. {{. {{13}에서 더 많은 비용을 지불하고 있습니다. 현재, 탄소 테트라 플루오 라이드 (CF4)는 상대적으로 저렴한 가격으로 에칭 가스 시장을 오랫동안 점령 해 왔으므로 광범위한 개발 잠재력 .
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